PVA刷子

在CMP (化学机械抛光)后加工中，使用聚乙烯基缩醛( PVA )刷清洗晶圆表面是应用于CMP污染物去除的最有效、最突出的技术之一。近来，不同类型的PVA毛刷在毛刷制造过程中产生的有机污染物在CMP群落中引起了大量的研究兴趣。本研究考察了两种不同类型PVA毛刷中这些残留有机杂质的根本原因：滚子型和铅笔型毛刷。由于毛刷成型工艺，PVA辊刷有蒙皮层，但铅笔式PVA毛刷没有蒙皮层。在超声频率为40   k Hz、输入功率为600   W的条件下，利用超声辅助技术对两种毛刷中的有机杂质进行提取，利用场发射扫描电子显微镜( FE-SEM )对这些有机杂质进行进一步评价，发现辊刷中含有大量的有机杂质，铅笔刷中的杂质可以忽略不计。飞行时间二次离子质谱( TOF-SIMS )分析证实聚二甲基硅氧烷( PDMS )为PVA辊刷中提取的有机杂质，是在辊刷制造过程中产生的。通过溶解四甲基氢氧化铵溶液( TMAH )中的有机杂质，利用FE-SEM显微照片进一步分析了PVA辊刷中PDMS的含量，在辊刷制造过程中，PDMS有机杂质在辊刷中的高含量本质上归因于模腔界面处有脱模剂形成的附加蒙皮层。