三(五氟苯基)硼烷和碳酸二甲酯的中间体为更深入的有机硅解聚反应铺平了道路

ty10086 提交于 周三, 08/25/2021 - 16:08
文章英文标题
Intermediates of tris(pentafluorophenyl)borane and dimethyl carbonate pave the way for deeper organosiloxane depolymerization reactions
正文
有机硅氧烷( OSs )中硅氧烷键( Si-O )的裂解是有机硅现代化学中最根本、最实际的重要挑战之一。然而,在温和的条件下,没有找到切断这些债券的良性方法。以绿色试剂碳酸二甲酯( DMC )和环境友好试剂三(五氟苯基)硼烷( B ( C6F5 ) 3 )为原料,研究了聚二甲基硅氧烷( PDMS )中硅氧烷键的断裂了研究,结果表明,Si - O键断裂后与DMC反应生成带有烷氧基端基的低分子量聚合物片段,而B ( C6F5 ) 3的加入显著提高了PDMS在室温或随温度升高解聚的程度。量子化学计算表明,DMC分子与B ( C6F5 ) 3形成稳定的配合物,较好地形成C = O·B键,增加了与PDMS碰撞时的溶剂化效应和动能。这一结果为配合物通过协同作用机制与Si-O-Si进行更有效的相互作用提供了合适的电子结构和取向。这种提出的良性途径可用于新型OS聚合物的生产、有机硅的回收和金属或金属类氧化物的功能化。
文章内容(英文)
Cleavage of siloxane bonds (Si-O) in organosiloxanes (OSs) is one of the most fundamentally and practically important challenges in the modern chemistry of silicones. However, no benign approaches have been found to cleave these bonds under mild conditions. In this paper, siloxane bond cleavage in polydimethylsiloxane (PDMS) was studied using a mixture of the “green” reagent dimethyl carbonate (DMC) and an environmentally benign reagent, tris(pentafluorophenyl)borane (B(C6F5)3). The obtained results indicate that the Si-O bonds are cleaved by reaction with DMC to form lower-weight polymer fragments with alkoxy end groups, while the addition of B(C6F5)3 to the depolymerizing mixture significantly increases the degree of PDMS depolymerization at room temperature or with increasing temperature. Quantum chemical calculations show that the DMC molecules form stable complexes with B(C6F5)3 by preferable formation of C=O····B bonds, which increases the solvation effects and kinetic energy upon collision with PDMS. This result provides an appropriate electronic structure and orientation for the complexes for more effective interaction with Si-O-Si via a concert mechanism. This proposed benign approach can be used for the production of new OS polymers, silicone recycling and functionalization of metal or metalloid oxides.
来源出处
Journal|[J]Polymer JournalVolume 53, Issue 4. 2021. PP 573-579
DOI
https://doi.org/10.1038/S41428-020-00452-0

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